|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
9th International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors, RTP 2001сборник
- Год издания: 2001
- Место издания: RTP
- Добавил в систему: Бурдель Константин Константинович
Статьи, опубликованные в сборнике
-
- 2001 Rapid thermal activation and diffusion of boron and phosphorus implants
- Fiory A.T., Chawda S.G., Madishetty S., Mehta V.R., Ravindra N.M., McCoy S.P., Lefrancois M.E., Bourdelle K.K., McKinley J.M., Gossmann H.J L, Agarwal A.
- в сборнике 9th International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors, RTP 2001, место издания RTP DOI