![]() |
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
Изготовлены наноэлектроды из золота методами электронно-лучевой нанолитографии толщиной 15 нм, шириной 1 мкм и до 30 нм в максимальном сужении. Разработана методика создания нависания этих проводов над подложкой путем изотропного травления материала подложки под ними в плавиковой кислоте. При этом показана непригодность использования реактивного травления в плазме для создания заготовок для проведения электромиграции. Методом электромиграции изготовлены зазоры в условиях обедненного теплооотвода в подложку в полученных нанопроводах шириной 1,5-4 нм. Исследованы характеристики протекания тока через изготовленные нанозазоры, которые показали туннельный характер электронного транспорта через них.