|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
Defocused Ion Beam Etching of the Silicon Probes for High Resolution Atomic-force Microscopyдоклад на конференции
- Авторы: Krasnoborodko S.Y., Vysokikh Y.E., Bulatov M.F., Churikov D.V., Smagulova S.A., Shevyakov V.I.
- Международная Конференция (Симпозиум) : PhotonIcs and Electromagnetics Research Symposium 2019
- Даты проведения конференции: 17-20 декабря 2019
- Дата доклада: 18 декабря 2019
- Тип доклада: Устный
- Докладчик: не указан
- Место проведения: Xiamen, China
- Добавил в систему: Булатов Марат Фатыхович