ИСТИНА

Изобретение относится к области технологии тонких пленок и покрытий, в частности к получению тонких пленок и покрытий неорганических фторидов, которые могут быть использованы как оптические, изоляционные и буферные материалы со строго определенной кристаллографической ориентацией - ориентированные фторидные покрытия. Способ получения ориентированных фторидных покрытий методом химического осаждения из паровой фазы включает размещение подложки в зоне осаждения реактора химического осаждения при температуре 250-400°С, проведение осаждения фторидного покрытия на подложку путем смешения потока металлоорганических соединений, которые испаряют в температурном интервале 150-300°С и давлении 1-20 мбар, и фторидобразующего потока. В качестве металлоорганических соединений используют летучие металлорганические соединения, не содержащие фтор. Фторидобразующий поток генерируют из твердого прекурсора в результате его испарения непосредственно в реакторе химического осаждения при температуре 50-120°С из твердого прекурсора, в качестве которого используют кислый неорганический бифторид. Поток металлоорганических соединений и фторидобразующий поток подают в зону осаждения или противотоком, или коаксиальным введением потоков в потоке инертного газа. Расширяется спектр используемых подложек и металлоорганических реагентов, устраняется коррозия оборудования при осуществлении данного способа, обеспечивается защита полученных покрытий от окисления, снижается температура проведения процесса, а следовательно, и стоимость затрат получаемых покрытий