Разработка метода отделения тонких пластин широкозонных полупроводниковых материалов, в том числе сверхтвердых, с использованием метода ионной имплантацииНИР

Источник финансирования НИР

Хоздоговор, Хоздоговор

Этапы НИР

# Сроки Название
1 9 октября 2015 г.-15 декабря 2015 г. Разработка методики формирования заглубленного дефектного слоя в пластинах из синтетического монокристалла алмаза с использованием метода ионной имплантации
Результаты этапа:
2 15 января 2016 г.-20 июня 2016 г. Изготовление экспериментальных образцов облученных структур
Результаты этапа:
3 11 июля 2016 г.-15 декабря 2016 г. Корректировака документации по результатам испытаний
Результаты этапа:

Прикрепленные к НИР результаты

Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".