Разработка технологии создания поляризационно-чувствительных элементов оптики, фотовольтаики и памяти на фазовых переходах с помощью прямой фемтосекундной лазерной записи на поверхностях аморфного кремния и халькогенидных стеклообразных полупроводниковНИР

Development of technology for creating polarization-sensitive elements of optics, photovoltaics and phase transition-based memory using femtosecond direct laser writing on surfaces of amorphous silicon and chalcogenide glassy semiconductors

Источник финансирования НИР

грант РНФ

Этапы НИР

# Сроки Название
1 13 мая 2022 г.-31 декабря 2022 г. Отработка технологии структурирования поверхностей аморфного кремния и халькогенидных стеклообразных полупроводников фемтосекундными лазерными импульсами
Результаты этапа:
2 1 января 2023 г.-31 декабря 2023 г. Масштабирование технологии структурирования поверхностей аморфного кремния и халькогенидных стеклообразных полупроводников фемтосекундными лазерными импульсами и создание лабораторных прототипов фотовольтаических элементов
Результаты этапа:
3 1 января 2024 г.-31 декабря 2024 г. Создание лабораторных прототипов поляризационных элементов и кодирование информации в халькогенидных стеклообразных полупроводниках с помощью фемтосекундных лазерных импульсов
Результаты этапа:

Прикрепленные к НИР результаты

Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".