|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
Механизм взаимодействия атомов F c SiСF3 группами на поверхности low-k диэлектриковстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
- Авторы: Воронина Е.Н., Манкелевич Ю.А., Рахимова Т.В.
- Журнал: Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования
- Том: 6
- Год издания: 2018
- Издательство: ФГБУ "Издательство "Наука"
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 23
- Последняя страница: 28
- Добавил в систему: Воронина Екатерина Николаевна