|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
Effect of O+ Ion Implantation on the Composition and Chemical Structure of Nanosized Surface Layers of a Copper-Nickel Alloy Cu50Ni50статья Научно-популярная статья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 6 декабря 2018 г.
- Авторы: Vorob’ev V.L., Gil’mutdinov F.Z., Bykov P.V., Baynkin V.Ya, Kolotov A.A.
- Журнал: Physics of Metals and Metallography
- Том: 119
- Номер: 9
- Год издания: 2018
- Издательство: Pleiades Publishing, Inc.
- Местоположение издательства: New York, USA
- Первая страница: 870
- Последняя страница: 875
- DOI: 10.1134/S0031918X18090144
- Аннотация: This paper presents the results of our investigation into the effects of О+ and Ar+ ion implantation and alternating implantation of Ar+ and О+ ions on the composition of nanoscale surface layers of a 50Cu–50Ni alloy. Our study showed that at the selected parameters of О+ ion irradiation, the formation of nanoscale surface layers of the investigated alloy depends on the chemical affinity of oxygen atoms to the alloy components rather than on the processes of radiation accompanying the irradiation. This paper analyzes the possible segregation processes of the alloy components under conditions of О+ and Ar+ ion irradiation.
- Добавил в систему: Воробьёв Василий Леонидович
Прикрепленные файлы
| № | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
|---|---|---|---|---|---|
| 1. | PhysMet1809014VorobevKOR.pdf | PhysMet1809014VorobevKOR.pdf | 930,9 КБ | 22 августа 2018 [Vasily_L.84@mail.ru] |