Electron field emission from nano-crystalline Si films deposited by inductively coupled plasma CVD at room temperatureстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.
Авторы:
He D.Y.,
Wang X.Q.,
Chen Q.,
Li J.S.,
Yin M.,
Karabutov A.V.,
Kazanskii A.G.