|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
Tantalum chemical vapour deposition on steel and tungsten substrates in the TaBr5-Cd-He systemстатья Исследовательская статья
Статья опубликована в высокорейтинговом журнале
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 24 января 2020 г.
- Авторы: Goncharov O.Yu, Sapegina I.V., Faizullin R.R., Baldaev L.Kh
- Журнал: Surface and Coatings Technology
- Том: 377
- Год издания: 2019
- Издательство: Elsevier BV
- Местоположение издательства: Netherlands
- Первая страница: 1
- Последняя страница: 7
- DOI: 10.1016/j.surfcoat.2019.124893
- Аннотация: The composition of coating layers deposited on the surface of 12Kh18N10T stainless steel (similar to 321 AISI) in the TaBr5-Cd-He system at temperatures ranging from 623 К to 1423 К and at a pressure of 1 atm was evaluated using thermodynamic analysis. Tantalum-based coatings were deposited on 12Kh18N10T and tungsten substrates by chemical vapour deposition (CVD) using reduction of tantalum bromide vapour by cadmium vapour at а temperature of 1023 К. The formation of β-Ta, diffuse layers of Ta-Fe as well as Fe2Ta-based Laves phase in the deposited coating layers has been analysed.
- Добавил в систему: Гончаров Олег Юрьевич