Kinetics of water molecule adsorption on the porous silicon surfaceстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 28 сентября 2016 г.
Аннотация:The kinetics of water vapor adsorption on the porous silicon surface is studied by the gas relaxometry method. The process multistepping which is reflected in sequential changes in H2O molecule diffusivities into the porous matrix, is found. Phenomenological models describing the experiment are considered.