|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
Donor formation in plasma-deposited amorphous silicon (a-Si:H) by erbium incorporationтезисы доклада
- Авторы: Kazanskii A., Mell H., Weiser G., Terukov E.
- Сборник: Abstracts of 19 International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors
- Тезисы
- Год издания: 2001
- Место издания: Nice
- Первая страница: 45
- Последняя страница: 45
- Добавил в систему: Казанский Андрей Георгиевич