|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
Фотообразование H2O2 в хлоропластах как компонент сигнальной системы, обуславливающей устойчивость растенийстатья
- Автор: Стриж И.Г.
- Сборник: Труды Всероссийской конференции «Устойчивость растений к неблагоприятным факторам внешней среды»
- Год издания: 2007
- Место издания: Иркутск
- Первая страница: 56
- Последняя страница: 60
- Аннотация: Образование активных форм кислорода (АФК) значительно активируется в условиях стресса, что может приводить не только к программируемой гибели клеток, но и к инициации адаптивных реакций. Одним из основных мест образования АФК в растительных клетках являются хлоропласты. Перераспределение потока электронов в электрон-транспортной цепи хлоропластов, приводящее к активации образования Н2О2, а не O2.- может являться одним из факторов, определяющим устойчивость растений.
- Добавил в систему: Стриж Ирина Георгиевна