|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
Study of spatial distributions of F, H and CF2 radicals in DF CCP discharge in Ar/CF4 and Ar/CHF3 mixturesстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 22 апреля 2013 г.
- Авторы: Braginsky O.V., Kovalev A.S., Lopaev D.V., Rakhimova T.V., Rakhimov A.T., Vasilieva A.N., Zyryanov S.M.
- Журнал: THIRD INTERNATIONAL WORKSHOP AND SUMMER SCHOOL ON PLASMA PHYSICS 2008 Book Series: Journal of Physics Conference Series
- Том: 207
- Номер: Article Number: 012014
- Год издания: 2010
- DOI: 10.1088/1742-6596/207/1/012014
- Добавил в систему: Рахимов Александр Турсунович