|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
3D etching modeling in the presence of complex shape conductorsстатья
- Авторы: Smirnov A.P., Oh J.J., Park W., Sheina E.A., Shin J.K., Shmelev A.B.
- Журнал: Ninth International Conference on Plasma Surface Engineering PSE-2004, Abstracts
- Том: 51
- Год издания: 2004
- Первая страница: 502
- Последняя страница: 502
- Аннотация: Математическое моделирование процесса этчинга в присутствии проводников сложной формы.
- Добавил в систему: Шмелев Алексей Борисович