|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
Physical and chemical processes in gas-discharge plasma during the deposition of nanocarbon filmsстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.
- Авторы: Ismagilov R.R., Volkov A.P., Shvets P.V., Obraztsov A.N.
- Журнал: Protection of Metals and Physical Chemistry of Surfaces
- Том: 45
- Номер: 6
- Год издания: 2009
- Издательство: Pleiades Publishing, Ltd
- Местоположение издательства: Road Town, United Kingdom
- Первая страница: 652
- Последняя страница: 655
- DOI: 10.1134/S2070205109060021
- Аннотация: The relationship of the parameters of activated methane-hydrogen mixture with the phase composition and structural features was determined for carbon films, which were precipitated from this mixture. Optical emission spectra of dc discharge were studied in conditions of the growth of different nanocarbon films. The peculiarities of the space intensity distribution of radiation corresponding to carbon C(2) dimers are shown.
- Добавил в систему: Исмагилов Ринат Рамилович