|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
Неустойчивость течения расплава кремния во вращающемся магнитном полестатья Электронная публикация
- Авторы: Верезуб Н.А., Простомолотов А.И.
- Сборник: Пермские гидродинамические научные чтения. Материалы VIII Всероссийской конф
- Год издания: 2022
- Издательство: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования Пермский государственный национальный исследовательский университет
- Местоположение издательства: Пермь
- Первая страница: 103
- Последняя страница: 112
- Аннотация: Обсуждаются применения вращающегося магнитного поля (ВМП) в технологии выращивания кристаллов полупроводников из расплава методом Чохральского (МЧ), в том числе рассматриваются и применяются для верификации результатов данной работы известные данные физического моделирования течений электропроводящего раствора KOH в цилиндрическом тигле в ВМП. Рассматривается математическая модель гидродинамических процессов применительно к выращиванию монокристаллов кремния диаметром 100 мм на установке Редмет-30, оснащенной ВМП-магнитом. Приводятся результаты теста расчетного профиля азимутальной скорости с данными измерений в растворе KOH. В виде диаграммы устойчивости обобщаются результаты параметрических исследований устойчивости течений расплава в зависимости от частоты и величины индукции ВМП. Построенная диаграмма устойчивости течений включает известные асимптотические решения для малых и больших значений числа Гартмана, которые подтверждают расчетные результаты данной работы. Рекомендуются оптимальные параметры ВМП для промышленного процесса выращивания МЧ-монокристаллов кремния.http://www.psu.ru/files/docs/science/books/sborniki/permskie-gidrodinamicheskie-nauchnyechteniya-2022.pdf
- Добавил в систему: Верезуб Наталия Анатольевна