Rapid thermal activation and diffusion of boron and phosphorus implants - статья | ИСТИНА – Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных

Rapid thermal activation and diffusion of boron and phosphorus implantsстатья

Авторы: Fiory A.T., Chawda S.G., Madishetty S., Mehta V.R., Ravindra N.M., McCoy S.P., Lefrancois M.E., Bourdelle K.K., McKinley J.M., Gossmann H.J L, Agarwal A.
Сборник: 9th International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors, RTP 2001
Год издания: 2001
Место издания: RTP
DOI: 10.1109/rtp.2001.1013770
Добавил в систему: Бурдель Константин Константинович