|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
The effect of as-implanted damage on the microstructure of threading dislocations in MeV implanted siliconстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 15 февраля 2024 г.
- Авторы: Bourdelle K.K., Eaglesham D.J., Jacobson D.C., Poate J.M.
- Журнал: Journal of Applied Physics
- Том: 86
- Номер: 3
- Год издания: 1999
- Издательство: AIP Publishing
- Местоположение издательства: United States
- Первая страница: 1221
- Последняя страница: 1225
- DOI: 10.1063/1.370874
- Добавил в систему: Бурдель Константин Константинович