PLASMA ENHANCED ATOMIC LAYER ETCHING IN Ar/C4F8 INDUCTIVELY COUPLED PLASMA WITH O2 CLEANING STEPтезисы доклада

Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 19 июня 2024 г.

Прикрепленные файлы


Имя Описание Имя файла Размер Добавлен
1. Полный текст Сборник GDPA-abstracts.pdf 40,2 МБ 15 ноября 2023 [Liinnad]