Аннотация:Методами ЯГРС 119Sn, РФА, измерения плотности, микротвердости и электропроводности закален‑ных образцов исследованы кинетика и механизм ступенчатых превращений при объемной изотерми‑ческой кристаллизации полупроводниковых стекол As2Se3Snх (х = 0.26, 0.40, 0.55) в интервале темпе‑ратур 210–310 °С. Установлено, что первичная тонкодисперсная фаза SnSe инициирует гетерогенноезарождение и двумерный рост кристаллов вторичной основной фазы As2Se3.