|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
Параметры плазмы и кинетика реактивно-ионного травления SIO2 и Si3N4 в смеси HBr/Cl2/Arстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАКСтатья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
- Авторы: Ефремов А.М., Бетелин В.Б., Kwon K.H.
- Журнал: Микроэлектроника
- Том: 52
- Номер: 2
- Год издания: 2023
- Издательство: Общество с ограниченной ответственностью Интеграция: Образование и Наука
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 152
- Последняя страница: 159
- DOI: 10.31857/S0544126923700217
- Добавил в систему: Стамов Любен Иванович