Challenges in scaling of IPVD deposited Ta barriers on OSG low-k films: Carbonization of Ta by CHx radicals generated through VUV-induced decomposition of carbon-containing groups

Ryabinkin, A.N.; Vishnevskiy, A.S.; Naumov, S.; Serov, A.O.; Maslakov, K.I.; Seregin, D.S.; Vorotyntsev, D.A.; Pal, A.F.; Rakhimova, T.V.; Vorotilov, K.A.; Baklanov, M.R.

Статья опубликована в высокорейтинговом журнале

Информация о цитировании статьи получена из Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 8 мая 2024 г.

Авторы: Ryabinkin Alexey N., Vishnevskiy Alexey S., Naumov Sergej, Serov Alexander O., Maslakov Konstantin I., Seregin Dmitry S., Vorotyntsev Dmitry A., Pal Alexander F., Rakhimova Tatyana V., Vorotilov Konstantin A., Baklanov Mikhail R.
Журнал: Plasma Processes and Polymers
Том: 21
Номер: 5
Год издания: 2024
Издательство: Wiley - V C H Verlag GmbbH & Co.
Местоположение издательства: Germany
Номер статьи: 2300206
DOI: 10.1002/ppap.202300206
Аннотация: The effect of vacuum ultraviolet (VUV) radiation during ionized physical vapor deposition (IPVD) of tantalum barriers on various porous organosilicate glass low-k SiCOH films is studied using advanced diagnostics and quantum chemical calculations. VUV photons break the Si–C bonds, releasing hydrocarbon radicals from the pore surfaces. These radicals, trapped in pores that are partially sealed by tantalum deposition, can either react with tantalum to form carbide-like compounds, TaCx, or be redeposited in the pores as CHx polymers. This is evidenced by a decrease in CH3 groups that correlates with an increase in TaCx. The formation of TaCx poses a significant challenge in the back end of line (BEOL) technology when reducing the barrier thickness.
Добавил в систему: Рябинкин Алексей Николаевич

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	ИСТИНА ЦЭМИ РАН
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА

ИСТИНА ЦЭМИ РАН

Challenges in scaling of IPVD deposited Ta barriers on OSG low-k films: Carbonization of Ta by CHx radicals generated through VUV-induced decomposition of carbon-containing groupsстатья Исследовательская статья

Прикрепленные файлы