|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
MOCVD Application for Thin Film Deposition of Nonvolatile Lanthanideстатья
- Авторы: Kotova O., Eliseeva S., Muydinov R., Kuzmina N., Kaul A.
- Журнал: Electrochemical Society Proceedings. PV
- Том: 9
- Год издания: 2005
- Первая страница: 306
- Последняя страница: 311
- Добавил в систему: Муйдинов Руслан Юрьевич