Синтез узкодисперсных коллоидных частиц SiO2 и пленок коллоидных кристаллов на их основестатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 28 мая 2015 г.
Аннотация:Предложен метод доращивания микрочастиц SiO2 при комнатной температуре, предполагающий высокие скорости доращивания и позволяющий получать сферические микрочастицы любого размера от 100 до 300 нм. При диаметре частиц свыше 200 нм его стандартное отклонение не превышает 4%. Получаемые в результате процесса спиртовые коллоидные растворы микрочастиц SiO2 могут быть непосредственно использованы для выращивания пленок коллоидных кристаллов.