|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ЦЭМИ РАН |
||
Tantalum-doped tin oxide thin films using hollow cathode gas flow sputtering technologyстатья
Статья опубликована в высокорейтинговом журнале
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus- Авторы: Huo Fangfang, Muydinov Ruslan, Seibertz Bertwin Bilgrim Otto, Wang Can, Hartig Manuel, Alktash Nivin, Gao Peng, Szyszka Bernd
- Журнал: Heliyon
- Том: 10
- Номер: 10
- Год издания: 2024
- Издательство: Elsevier Science Publishing Company, Inc.
- Местоположение издательства: Нидерланды
- Номер статьи: e30943
- DOI: 10.1016/j.heliyon.2024.e30943
- Добавил в систему: Муйдинов Руслан Юрьевич