Аннотация:В работе рассматриваются переходные процессы, происходящие в призондовом слое плазмы низкого давления. Представлены измерения зондовых характеристик в импульсном режиме в плазме кислорода и гелия. На диаграмме временной зависимости зондового тока наблюдается всплеск, который связан со структурной перестройкой, происходящей в призондовом слое. Обсуждается вопрос о величине призондового слоя объёмного заряда в электрон-ионной, электрон-ион-ионной и ион-ионной плазме. Показано, что присутствие отрицательных ионов в плазме приводит к радикальному уменьшению ионного слоя. Предложена модель формирования призондового слоя в нестационарной плазме низкого давления. Показано, что слой объёмного заряда формируется за время 5-6 столкновений ионов с нейтральными частицами. Предложены алгоритмы определения характерного времени и сечения столкновений. Обсуждается форма зондовых вольт-амперных характеристик применительно к току смещения и установившемуся току. Показано, что ток смещения имеет линейную зависимость от прикладываемого к зонду потенциала. Обсуждается вопрос о величине диэлектрической проницаемости плазмы.