Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ЦЭМИ РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Формирование пленок вольфрама и его оксидов в высокочастотном емкостном разряде в смеси D2–O2
статья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 24 октября 2018 г.
Авторы:
Городецкий А.Е.
,
Залавутдинов Р.Х.
,
Буховец В.Л.
,
Маркин А.В.
,
Захаров А.П.
,
Золотаревский В.И.
,
Войтицкий В.Л.
,
Рыбкина Т.В.
,
Казанский Л.П.
,
Архипушкин И.А.
,
Мухин Е.Е.
,
Раздобарин А.Г.
Журнал:
Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования
Номер:
12
Год издания:
2017
Издательство:
ФГБУ "Издательство "Наука"
Местоположение издательства:
Москва
Первая страница:
91
Последняя страница:
102
Переводные версии:
Formation of Films of Tungsten and its Oxides in a High-Frequency Capacitive Discharge in a D2-O2 Mixture
DOI:
10.7868/S0207352817120125
Добавил в систему:
Казанский Леонид Петрович