Создать обращение в службу поддержки пользователей
Обращение успешно создано! Ему присвоен номер 0.
На адрес Вашей электронной почты отправлено письмо о регистрации обращения. Вы можете ответить на него, если хотите предоставить дополнительную информацию или прикрепить файлы.
Произошла ошибка при создании обращения. Попробуйте перезагрузить страницу и заново создать обращение.

Подтверждение выхода

Вы действительно хотите завершить сессию?
ИСТИНА ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
  • Область интересов
  • Публикации
  • НИР и НИОКР
  • Доклады
  • Учебная работа
  • Инновации
  • Прочее
  • Все результаты
Удаление сотрудника
Вы действительно хотите удалить сотрудника?
Удалить
Hall L.
Hall L.
IstinaResearcherID (IRID): 1349071
–

Статьи в журналах

    • 2019 Stellar population models based on the SDSS-IV MaStar library of stellar spectra. I. Intermediate-age/old models
    • Maraston C., Hill L., Thomas D., Yan R., Chen Y., Lian J., Parikh T., Meneses-Goytia S., Bershady M., Drory N., Bizyaev D., Concas A., Brownstein J., Lazarz D., Stringfellow G., Stassun K.
    • в журнале ArXiv e-prints, с. arXiv:1911.05748
    • 2019 Efficacy and Safety of Belimumab and Azathioprine for Maintenance of Remission in Antineutrophil Cytoplasmic Antibody-Associated Vasculitis: A Randomized Controlled Study
    • Jayne D., Blockmans D., Luqmani R., Moiseev S., Ji B., Green Y., Hall L., Roth D., Henderson R.B., Merkel P.A.
    • в журнале ARTHRITIS & RHEUMATOLOGY, том 71, № 6, с. 952-963 DOI
    • 1998 Investigation of CF3I as an Environmentally Benign Dielectric Etchant
    • Levy R.A., Zaitsev V.B., Aryusook K., Sigal V., Misra A., Kesari S., Rufin D., Sees J., Hall L.
    • в журнале Journal of Materials Research, издательство Materials Research Society (United States), том 13, № 9, с. 2643-2648 DOI
    • 1998 Plasma etching of dielectric films using the non-global-warming gas CF3I
    • Misra A., Sees J., Hall L., Levy R.A., Zaitsev V.B., Aryusook K., Ravindranath C., Sigal V., Kesari S., Rufin D.
    • в журнале Materials Letters, издательство Elsevier BV (Netherlands), том 34, с. 415-419 DOI

ИСТИНА ЦЭМИ РАН
© 2011-2025 Лаборатория 404. НИИ механики МГУ.
Правила пользования
Помощь
Создать обращение Обратная связь