Создать обращение в службу поддержки пользователей
Обращение успешно создано! Ему присвоен номер 0.
На адрес Вашей электронной почты отправлено письмо о регистрации обращения. Вы можете ответить на него, если хотите предоставить дополнительную информацию или прикрепить файлы.
Произошла ошибка при создании обращения. Попробуйте перезагрузить страницу и заново создать обращение.

Подтверждение выхода

Вы действительно хотите завершить сессию?
ИСТИНА ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
  • Область интересов
  • Публикации
  • НИР и НИОКР
  • Доклады
  • Учебная работа
  • Инновации
  • Прочее
  • Все результаты
Удаление сотрудника
Вы действительно хотите удалить сотрудника?
Удалить
Cayrefourcq I.
Cayrefourcq I.
IstinaResearcherID (IRID): 599299375
–

Статьи в журналах

    • 2008 Splitting kinetics of Si0.8Ge0.2 layers implanted with H or sequentially with He and H
    • Nguyen Phuong, Bourdelle K.K., Aulnette C., Lallement F., Daix N., Daval N., Cayrefourcq I., Letertre F., Mazuré C., Bogumilowicz Y., Tauzin A., Deguet C., Cherkashin N., Claverie A.
    • в журнале Journal of Applied Physics, издательство AIP Publishing (United States), том 104, № 11 DOI
    • 2006 Hydrogen implantation-induced defects in bulk Si studied by Raman spectrometry
    • Villeneuve C., Paillard V., Bourdelle K.K., Cayrefourcq I., Boussagol A., Kennard M.
    • в журнале Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, издательство Elsevier BV (Netherlands), том 253, № 1-2, с. 182-186 DOI
    • 2005 Mechanism of the Smart Cut™ layer transfer in silicon by hydrogen and helium coimplantation in the medium dose range
    • Nguyen Phuong, Cayrefourcq I., Bourdelle K.K., Boussagol A., Guiot E., Ben Mohamed N., Sousbie N., Akatsu T.
    • в журнале Journal of Applied Physics, издательство AIP Publishing (United States), том 97, № 8 DOI

ИСТИНА ЦЭМИ РАН
© 2011-2025 Лаборатория 404. НИИ механики МГУ.
Правила пользования
Помощь
Создать обращение Обратная связь